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BENEQ是ALD之家。他們提供兩大產(chǎn)品：ALD解決方案和Lumineq顯示屏。BENEQ原子層沉積ALD解決方案提高了功率器件和光學(xué)器件的性能和耐用性。BENEQ氣溶膠設(shè)備光學(xué)鍍膜 、 原子層沉積、BENEQ氣溶膠鍍膜、 裝飾性鍍膜 、BENEQ透明導(dǎo)電氧化物、 顆粒鍍膜、BENEQ 生物相容性鍍膜等都是他們的主要產(chǎn)品。今天小編將為大家分享有關(guān)BENEQ,芬蘭BENEQ氣溶膠設(shè)備,BENEQ原子層沉積的內(nèi)容：
一、BENEQ公司簡介：
BENEQ是ALD之家。他們提供兩大產(chǎn)品：ALD解決方案和Lumineq顯示屏。BENEQ原子層沉積ALD解決方案提高了功率器件和光學(xué)器件的性能和耐用性。在新興的半導(dǎo)體，物聯(lián)網(wǎng)，5G和汽車應(yīng)用中，它們具有無形的優(yōu)勢。BENEQ Lumineq®顯示屏是全球透明度最高的顯示屏。與其他任何類型的顯示器相比，Lumineq加固顯示屏更適用于嚴(yán)苛的極端環(huán)境。全球百強(qiáng)企業(yè)中，有27家都是BENEQ的老客戶。
二、BENEQ公司產(chǎn)品簡介：
1.BENEQ氣溶膠設(shè)備：
①擁有緊湊型結(jié)構(gòu)和優(yōu)質(zhì)的ALD反應(yīng)器。采用人體工程學(xué)設(shè)計，提高設(shè)備性能和操作效率。模塊化設(shè)計便于快速升級和維護(hù)。標(biāo)準(zhǔn)熱ALD設(shè)定。
②因客戶配置和附件而異，定制屬于您的R2，4個液體源。使用標(biāo)準(zhǔn)50毫升世偉洛克容器。單晶圓反應(yīng)腔。
③備件和消耗品套件。包裝以及CIP運(yùn)輸至機(jī)場。設(shè)備調(diào)試和啟動（包括現(xiàn)場3天）。
2.BENEQ生物相容性鍍膜：
①BENEQ TFS 200是一款適用于科學(xué)研究和企業(yè)研發(fā)的最靈活的ALD平臺。BENEQ TFS 200是為多用戶研究環(huán)境中將可能發(fā)生的交叉污染降至最低而特別設(shè)計的。各種配置選項和升級意味著BENEQ TFS 200將與您一起成長，以滿足高標(biāo)準(zhǔn)的研發(fā)需求。
②BENEQ TFS 200不僅可以在晶圓，平面物體上鍍膜，還適用于粉末，顆粒，多孔的基底材料，或是有高深徑比的3D物體內(nèi)沉積高保形薄膜。
③直接和遠(yuǎn)程等離子體沉積(PEALD)可作為BENEQ TFS 200的標(biāo)準(zhǔn)選項。等離子體是電容性耦合(CCP)，這是當(dāng)今的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。等離子體選件可為直徑200毫米的基板（面朝上或面朝下）提供直接和遠(yuǎn)程等離子體增強(qiáng)沉積(PEALD)。
3.BENEQ裝飾性鍍膜：
①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和傳感器、RF、LED、光學(xué)和高級封裝應(yīng)用的一站式ALD解決方案。其采用全新的集群設(shè)計，即在一個全自動平臺上將熱法和等離子ALD與單晶圓和批量工藝相結(jié)合，從而為客戶提供了卓越的靈活性。它專有的預(yù)熱模塊可減少數(shù)小時的等待時間，并將生產(chǎn)量提升到一個全新的水平：熱模式下15 wph 50 nm Al2O3。
②該產(chǎn)品還新增了多達(dá)2個熱處理或等離子體模塊，從而進(jìn)一步提高產(chǎn)能。BENEQ Transform™Lite和體型更大的Transform™一樣，可提供熱法和等離子ALD工藝及預(yù)熱模塊。從研發(fā)、原型設(shè)計到批量生產(chǎn)，BENEQ Transform™Lite在整個工藝中都能發(fā)揮有效的作用。它能進(jìn)行表面預(yù)處理，在3至8英寸的晶圓基底材料上進(jìn)行鍍膜。如今通過Transform™Lite，客戶可以選擇在多個設(shè)備和應(yīng)用程序上操作不同的ALD工藝。而所有這一切都是在一個平臺上完成的！
③真正的多功能性，熱法和等離子ALD。單晶圓和批量工藝。最廣泛的高性能氧化物和氮化物。這些組合最大限度地提高了批量生產(chǎn)的靈活選擇。
4.BENEQ原子層沉積：
①適用于工業(yè)OLED封裝的ALD系統(tǒng)，BENEQ WCS 600是用于研發(fā)和試生產(chǎn)的卷對卷原子層沉積系統(tǒng)，特別適用于AMOLED顯示屏、OLED照明、柔性光伏電池、電池和柔性玻璃鍍膜的應(yīng)用。將高品質(zhì)原子層沉積膜連續(xù)沉積到柔性基底卷上，如聚合物、金屬或紙。
②對敏感基底的加工溫度較低（<150℃），具有廣泛的工作壓力范圍，適用于線路集成。系統(tǒng)沉積速度具有高度拓展性，可達(dá)到10米/分鐘。
三、BENEQ公司產(chǎn)品型號：
①BENEQ M2048-B-SP
②BENEQ T560-521-312
③BENEQ AM206-12
④BENEQ GS65.40-40
⑤BENEQ 03193-4712040
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